1、标准配置：主机（含样品室、样品台、触摸屏控制器、两个独立气体进口）。
2、选配泵与连接件：GD4旋片真空泵（可选），或用于连接干式涡旋泵的专用连接套件。
3、样品夹具：提供两种可选夹具，用于批量处理铜网或支持膜，也可直接用实验室玻片承载。
4、双系统选项：提供双室配置（#E91002），以避免样品交叉污染。
5、备件与耗材：包括替换玻璃样品室、O型圈及保护垫圈等。

对TEM铜网及支持膜进行清洗和表面处理，实现亲水/疏水改性。特色是操作便捷、处理周期短、结果重现性好，并支持自动与手动模式。

等离子体电流0-30 mA，工作真空范围1.1-0.20 mbar，样品室Φ120×100mm，样品台Φ75mm。